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半导体及电子材料

MOCVD加热器组件

在MOCVD工艺中，精确的温度控制是实现高质量薄膜沉积的核心要求，加热器需要迅速且均匀地传递热量，确保反应腔内的温度达到高度精确和稳定的状态，才能为晶体生长和薄膜沉积创造理想环境。

铼加热器不仅满足前述要求，且在急冷急热极端工况下长时运行依然保持结构稳定，减少设备维护和部件更换频率，降低生产成本，提高了生产的连续性和稳定性。高纯铼原料所制加热器可进一步减少加热过程中的杂质挥发，减少缺陷因素，保证产品质量稳定性。